產(chǎn)品名稱：鉬靶材
純度：≥99.95%
密度：理論密度的99.9%以上
圓靶材規(guī)格：D（25-400）mm*T（3-28）mm
方靶材規(guī)格：L（200-2000）mm*W（10-1000）mm*T(1-20)mm
管靶材規(guī)格：D≤Φ165mm*L≤1000mm
其他規(guī)格請聯(lián)系我們協(xié)商解決
　　   鉬靶材廣泛用于磁控濺射鍍膜。在物理氣相鍍膜(PVD)方式中，對鉬靶材的成分純度，密度，微觀結(jié)構(gòu)，內(nèi)部質(zhì)量，焊接質(zhì)量，外觀質(zhì)量和幾何尺寸有著嚴(yán)格要求。
　　   鉬濺射靶材現(xiàn)用于平板顯示器、鍍膜玻璃工業(yè)(主要包括建筑玻璃、汽車玻璃、光學(xué)薄膜玻璃等)、薄膜太陽能、 表面工程(裝飾&工具)、（磁、光）記錄介質(zhì)、微電子、汽車車燈、裝飾鍍膜等，
板靶材: 單重:≤200kg/pc, 純度:≥99.95%
管靶材: 長度:≤Φ165mmΧ1000mm ,純度:≥99.95%


鉬材料適用環(huán)境：真空環(huán)境或惰性氣體保護(hù)環(huán)境，純鉬較高耐高溫1200度，鉬合金較高耐高溫1700度。

鉬材料的適用行業(yè)及用途：鉬材料主要用在真空高溫行業(yè)，電子行業(yè)，藍(lán)寶石熱場及航空航天制造行業(yè)等，鉬材料經(jīng)過變形量達(dá)到60%以上的軋制加工后，鉬的密度基本上接近于理論密度，因此其具有高強(qiáng)度，內(nèi)部組織均勻和優(yōu)良的抗高溫蠕變性能，被廣泛應(yīng)用于生產(chǎn)藍(lán)寶石晶體生長爐內(nèi)的反射屏，蓋板真空爐內(nèi)的反射屏，發(fā)熱帶，連接件，等離子鍍膜用的濺射靶材，耐高溫舟皿等制品。